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第422章 专项人才引进（第1页）

第422章专项人才引进

挂断了电话之后，许青山无奈地摇头叹了口气。

王兴学长现在什么都好，就是有些孩子气，也算是返璞归真了，自己也只能宠着了，毕竟也是专心致志给自己打工的。

但手里过的期刊越多，对于芯片行业了解的越是深入，许青山就越发应证了自己之前的计划顾虑。

完整的芯片制备流程所涉及到的世界尖端技术实在是太多了。

在芯片设计阶段，使用eda软件工具进行电路逻辑设计、物理布局和仿真验证，并且需要开发出独立的硬件描述语言，才能把抽象的逻辑具象化为纳米级精度的电路结构设计。

想要完成这一步，就已经需要通信工程和电子工程领域的顶尖大佬。

而目前国内在消费级领域的人才几乎为0。

虽然通信方面也有不少专家，可专家们的研究领域是完全不同的，国内侧重领域所需要用到的芯片并不需要过分在意体积和精密度问题。

就像是同一个功法两个路线，一个是做小做精，一个是纯粹做强。

后者不会弱于前者，但在场景应用上会有很大的限制。

许青山也很清楚，未来大部分领域都会朝向精密化芯片的方向发展，无人机、机器狗，或是其他搭载智能化技术的工具，体积越小，隐蔽性越强。

而在制造过程中最为关键的光刻技术部分，是最难解决的瓶颈问题。

全球仅有荷兰能生产的euv光刻机，全机身上下涉及十几万的精密零件，而且激光等离子体光源的功率需要达到250w以上。

目前华夏境内并不具备生产机身精密零件的条件，不管是硬性条件还是人才条件都达不到。

而有了euv光刻机也只是拥有了硬件制备平台，就是这么一个硬件设备平台对于晶体管密度和芯片性能拥有决定性的作用，甚至占了制造成本三成以上。

拥有了硬件平台同时也要具备相对应的技术，在目前全球芯片制造工艺中最常用的就是干法刻蚀和湿法刻蚀。

前者利用等离子体精确的去除硅片表面的多余材料，实现纳米级的图案转移，也就是把eda设计出来的电路结构设计转移到硅片上。而后者则是通过化学溶液处理硅光的材料结构，主要用于传统制程。

国内湿法刻蚀的水准倒是很可以，但在消费级的干法刻蚀上，稍微显得有些尴尬。

人才有是有，可是不够尖。

而且那些人目前也都集中在国内几个光学中心，很难被抽调走。

对于这核心部分，许青山可能还是得考虑自己来做。

但其他部分，许青山已经划分好了各个区块，按照不同的技术区块来寻求专项的人才引进。

“想要调控好晶体管导电的特性，将硼、磷等离子注入硅片，形成pn型半导体区域。要想在这一操作准确地控制好精度达到原子级，一个重点实验室的配套也是躲不掉的，单基础设备就得上千万。”

许青山揉着自己的太阳穴，不断地衡量着目前自己能引进的技术板块。

“薄膜沉积技术倒是好说一点，国内的技术还算成熟，能用得上，化学机械研磨也好解决，掺杂与退火也还行，这几个都可以先着手安排一下。”

许青山在自己面前的纸上圈了两个重点。

“封装测试的部分技术封锁没有那么严重，这部分就交给小米来解决就行，毕竟先进的封装技术最终决定的也只是性能的上限，我们现在要做的是先确保能把东西做出来，把下限提起来。”

许青山目前对于芯片制造行业已经有了较为深刻的认知。

芯片制造是精密科学与工程技术的巅峰融合，对于目前的华夏来说，光刻技术就是核心瓶颈，而刻蚀、离子注入、薄膜沉积则将构成华夏芯片制造的铁三角。

作为芯片制造的支撑性核心技术的单晶硅制备和洁净室环境控制，目前鹭岛那边的实验室已经有了一定的突破，许青山用新鹭投收购的尚德技术、设备和专利可不是用来吃干饭的。

但目前进行单晶硅制备时，产出的单晶硅硅片纯度依旧没有办法达到能满足芯片制作级别的水平。

好在高纯度单晶硅棒的制备方法有很多，许青山目前也还没有把研究重心放到这方面上，所以鹭岛那边的半导体工厂目前也只能尝试地开拓一些非核心业务。

但这就相当于一个引线，等到许青山做好准备的时候，一个极佳的单晶硅生长法就能够成为点燃这个芯片帝国的最佳火种。

许青山思来想去，最后还是拿起了电话给周其凤打了过去。

“什么？你要申请专项人才引进的专项资金？可是今年的预算学校不是已经给你批下去了吗？你要是想引进的话直接走流程，学校不会有人拦着你的。”

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